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MEC 專注于 CMP 設備模塊制造與本地化服務
我們為襯底和晶圓制造企業提供高性價比的CMP設備技術解決方案,支持模塊級替代、工藝適配與整機維護
了解工藝
本地制造 快速交付
自主制造拋光頭、清洗臂等關鍵模塊
設備升級 提升效率
提供整機調試、控制系統替換、SAT(Site Acceptance Test)交付支持
耗材適配 工藝優化
聯合客戶優化CMP工藝,提升良率與一致性
聯合開發 靈活定制
提供OEM/ODM技術服務,適配多類產線需求
企業榮譽
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2024年11月28日,銘揚半導體科技(合肥)有限公司獲高新技術企業證書,彰顯其在半導體領域技術創新實力獲權威認可。
自成立以來,銘揚依托自主技術體系,迅速完成多款CMP設備的迭代與產業化落地。
第二款6/8英寸CMP設備已在國內多家客戶現場實現規模化部署,支持快速晶圓切換及工藝定制化。
第三款8英寸平臺率先實現“干進干出”功能,已通過高端器件廠及先進封裝廠的量產驗證。
新一代模塊化CMP平臺進一步拓展至PolySi、GaN、金剛石等難加工材料的拋光工藝,顯著強化了公司在光學襯底、功率器件等高端應用的技術壁壘。
截至目前,公司已取得多項核心技術成果,構建了自主可控的知識產權體系。作為業內少數同時擁有CMP整機、工藝、耗材及服務能力的本土廠商,銘揚不斷推進CMP設備技術的國產突破,加速寬禁帶半導體領域從材料、裝備到應用的全面自主。
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